冷温帯のスギ人工林の下層での広葉樹のフェノロジー
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概要
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冷温帯下部のスギ人工林内に侵入した広葉樹53種の葉数の季節変化やシュートと葉の伸長様式を調べた。出現樹種の伸長パターンは,順次伸長タイプと一斉伸長タイプに分けられた。高木性のオニグルミ・ホオノキ,小高木や低木性のニワトコ・イボタノキなどはシュート当りの葉数が多く,葉の寿命も短く,伸長期間の長い顕著な順次伸長パターンを示した。このタイプは,ギャップ内で成長を拡大するのに有利な伸長様式を備えているようである。逆に,高木性のヤマモミジ・ミズナラ,小高木や低木性のエゾユズリハ・ツリバナなどは,シュート当りの葉数が少なく,葉の寿命が長く,伸長期間の短い顕著な一斉伸長パターンを示した。このタイプは,被陰ストレスに対し耐性的な性質を備えているようである。順次伸長を持つヒメアオキを除く常緑樹は,一斉伸長タイプに属した。一斉伸長を持つコマユミを除く半常緑樹は,順次伸長タイプに属した。以上のことから,スギ人工林内での樹種によるフェノロジーの違いは,ギャップに対する依存性の違いを反映しているものと思われた。
- 森林立地学会の論文
- 2000-06-15
著者
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