2533 マイクロマシン製造プロセス用電子線接合法の基礎的研究(J10-7 スマートプロセス,J10 知的材料・構造システム)
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概要
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Influences of electron beam irradiation on interface strength were studied for metal thin film. A measurement method to measure the interface vertical to thin film plain on substrate has been suggested. Metal thin films were prepared by DC magnetron sputtering process. To obtain the elasticity, tensile strength and its strain of the interface strength, the stress-strain curves were obtained at joining interface vertical to the thin film plain on the substrate. Interface strength values of metal thin films prepared by different processes were obtained.
- 2007-09-07
著者
-
西 義武
東海大学大学院工学研究科金属材料工学専攻
-
高田 啓介
東海大学大学院工学研究科金属材料工学専攻
-
岩田 圭祐
東海大学連合大学院理工学研究科
-
利根川 昭
東海大学連合大学院理工学研究科
-
西 義武
東海大院
-
久保 大司
東海大学大学院工学研究科金属材料学専攻
-
利根川 昭
東海大学理学部物理学科
-
久保 大司
東海大院
-
利根 川昭
東海大連大院
-
岩田 圭祐
東海大連大院
-
西 義武
東海大学大学院工学研究科
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