20110 可視光レーザ吸収用半導体多層膜の生成と特性(機械工学が支援する最先端デバイス技術,OS1 機械工学が支援する微細加工技術(半導体・MEMS・NEMS))
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概要
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In this paper, a selective absorber thin film is proposed for the energy absorber thin film of a laser micro actuator used as an actuator in a micromachine. The selective absorber thin film is composed of a germanium thin film and silicon oxide thin film deposited on a alminum substrate and is fabricated by vaccum deposition. At the first stage germanium and silicon oxide are deposited on a glass substrate, respectively for estimating deposition rates and determining the characteristics of a deposited thin film. At the second stage selective absorber thin films that have different film thickness combinations are made and moreover, optical properties and surface temperature with laser irradiation are measured to decide the optimal film thickness for optical laser.
- 一般社団法人日本機械学会の論文
- 2006-03-09
著者
-
太田 正廣
関東職業能力開発大学校
-
太田 正廣
首都大学東京
-
太田 正廣
首都大学東京 大学院 理工学研究科 機械工学専攻
-
何 英
首都大学東京(院)
-
山田 剛治
都立大院
-
何 英
首都大院
-
太田 正廣
首都大
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