液相析出法による酸化スズ薄膜の連続成膜システムについて(<特集>水溶液科学に立脚したセラミックス合成プロセス)
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概要
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SnO_2 thin film was prepared from a SnF_2-HF aqueous solution with the addition of H_3BO_3 aqueous solution by the Liquid Phase Deposition (LPD) method. We focused on the construction of the continuous deposition system and the control of the deposition rate. Parent solution containing SnF_2-HF was intermittently added to the treatment solution, which consists of the excess amount of H_3BO_3. As a result, the deposition rate can be maintained almost constant, at least for 24h, and uniform SnO_2 film with the thickness of more than 600nm was obtained.
- 2007-12-01
著者
-
水畑 穣
神戸大院工
-
出来 成人
Department Of Chemical Science And Engineering Faculty Of Engineering Kobe University
-
出来 成人
神戸大学
-
出来 成人
神戸大学大学院工学研究科
-
出来 成人
神戸大学工学部工業化学科
-
水畑 穣
Department of Chemical Science and Engineering, Graduate School of Engineering, Kobe University
-
水畑 穣
Department Of Chemical Science And Engineering Faculty Of Engineering Kobe University
-
水畑 穣
大阪工技研
-
斉藤 靖弘
Research and Development Group, Technical Research Laboratory, Nippon Sheet Glass Co., Ltd.
-
関口 幸成
Research and Development Group, Technical Research Laboratory, Nippon Sheet Glass Co., Ltd.
-
斉藤 靖弘
Research And Development Group Technical Research Laboratory Nippon Sheet Glass Co. Ltd.
-
関口 幸成
Research And Development Group Technical Research Laboratory Nippon Sheet Glass Co. Ltd.
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