Simultaneous Measurement of Size and Depth of Each Defect in a Silicon Wafer Using Light Scattering at Two Wavelengths : Principle, Limitation and Applications of Optical Shallow Defect Analyzer

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概要

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• 社団法人応用物理学会の論文
• 1999-06-15

著者

• Takeda K

  Hitachi Ltd. Hitachi Research Laboratory

• Kawae Tatsuya

  Department Of Applied Quantum Physics Kyushu University

• Matsui Shigeru

  Instrument Div. Hitachi Ltd.

• TAKEDA Kazuo

  Central Research Lab., Hitachi, Lid.

• ISOMAE Seiichi

  Central Research Lab., Hitachi, Lid.

• OHKURA Makoto

  Central Research Lab., Hitachi, Lid.

• MAESHIMA Muneo

  Instrument Div., Hitachi Ltd.

• Takeda Kazuyuki

  Department Of Energy Conversion Kyushu University

• Ohkura M

  Hitachi Ltd.

• Isomae S

  Hitachi Ltd. Tokyo Jpn

• Maeshima Muneo

  Instrument Div. Hitachi Ltd.

• Takeda Kazuo

  Central Research Lab. Hitachi Ltd.

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