2.プロセス用プラズマ : 2.1非平衡プラズマ(<小特集>実用装置におけるプラズマ生成)
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概要
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Low pressure non-equilibrium plasmas for manufacturing electronic devices are discussed from the view point of plasma physics. Requests to the plasmas are explained with short coments on such topics as types of discharge, frequencies used, coupler or launchers, plasma production and control of plasma parameters.
- 社団法人プラズマ・核融合学会の論文
- 1993-07-25
著者
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