反応性プラズマ計測用加熱プローブの開発
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概要
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This paper reports the development of a heated Langmuir probe for diagnostics of reactive plasmas which are used for various material processing. Diagnostics of reactive plasmas with conventional Langmuir probes have drawbacks in that the probe tip is covered with thin insulated films. The tip of the probe presented in this paper was indirectly heated to 1,000K to avoid the deposition of insulated films on the surface. By utilizing a commercial sheathed heater for the probe tip, the probe was constructed simply and economically. The effectiveness of the heated probe was examined in an inductively coupled CF_4 plasma. In addition, the F^- density in a helicon-wave CF_4 plasma was measured by the heated probe combined with laser photodetachment.
- 社団法人プラズマ・核融合学会の論文
- 1998-07-25
著者
-
佐々木 浩一
名古屋大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
門田 清
名古屋大学大学院工学研究科
-
門田 清
名古屋大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
門田 清
名古屋大学プラズマ科学センター
-
佐々木 浩一
名大工
-
佐々木 浩一
名古屋大学
-
高田 昇治
名古屋大学工学部電気学科
-
高田 昇治
名古屋大学大学院工学研究科
-
林 大雄
名古屋大学大学院工学研究科
-
林 大雄
名古屋大・工
-
門田 清
名古屋大学フラスマ研究所
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