ホログラフィック光学素子による高効率レーザ転写加工装置
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
エキシマレーザはその短波長性、短パルス性などから電子基板の穴開け加工などの微細加工用途に応用が期待されている。このような微細加工に使用される加工光学系はマスク転写加工光学系が一般的である。ところが従来のマスク転写加工では通常、マスクの開口率が低く、マスクに照射されたレーザ光はそのほとんどがマスクに遮られる。このため光学系のエネルギー効率は非常に低く抑えられており、このことがエキシマレーザの微細加工分野での普及の妨げになっていた。我々はこの状況を克服するためにホログラフィック光学素子を用いた転写加工光学系を開発した。これはホログラフィック光学素子によってレーザビームをマスク開口部に分割照射し、マスク透過率を飛躍的に向上させるものである。この光学系によって従来の10倍以上のエネルギー効率を得ることが可能となった。
- 社団法人映像情報メディア学会の論文
- 1998-06-25
著者
-
山本 達也
三菱電機(株)先端技術総合研究所
-
佐藤 行雄
三菱電機(株)
-
佐藤 行雄
三菱電機先端技術総合研究所
-
佐藤 行雄
三菱電機(株)先端技術総合研究所
-
斉藤 善夫
三菱電機(株)先端技術総合研究所
-
佐藤 行雄
三菱電機 先端技総研
関連論文
- 4kWラジアル偏光ビームの発生
- プリパルス/PFN回路方式XeClエキシマレーザの動作解析
- KrFエキシマレーザガス寿命の繰り返し周波数依存性
- KrFエキシマ励起放電中の陰極輝点とガス温度の検討
- 高指向性単眼式HMDの光学特性評価
- ホログラムビーム照射光学系による長周期ファイバーグレーティングの製作(2)-UV光前照射法による水素処理光感度一定化-
- グリｰンレｰザｰによる低温ポリシリコン化アニｰル
- パルスグリーンレーザーアニール用均一線状ビーム照射光学系の開発
- 単一縦モードCW色素レーザー光の高利得パルス増幅
- 高輝度レーザガイド星用レーザシステムへのパルス色素レーザの適用検討
- 薄型・小型指紋センサ
- 低温poly-Si製容量型指紋センサ (「VLSI一般」)
- 低温poly-Si製容量型指紋センサ
- 単一縦モードCW色素レーザー光の高利得パルス増幅
- マルチゾーンホモジナイザによる高効率微細レーザー加工
- マルチゾーンホモジナイザによる高効率微細加工
- ホログラフィック光学素子を用いたエキシマレーザ加工用多重結像光学系
- ホログラムによる高効率光加工技術
- エレクトロニクス分野におけるエキシマレーザー加工の応用
- エキシマレーザの高効率転写加工光学系
- 解説 装着型ディスプレー 視野をふさがない画面
- 高出力・高ビーム品質色素レーザー開発
- 口径90mm放電管による大出力銅蒸気レーザーの開発
- 大口径CVL発振器の開発
- プレーナオプティクス型光トラッキングセンサーの開発
- 2kW出力XeClレーザーの開発
- 4)ホログラフィック光学素子による高効率レーザ転写加工装置(〔情報センシング研究会 情報ディスプレイ研究会〕合同)(画像変換技術)
- ホログラフィック光学素子による高効率レーザ転写加工装置
- ホログラフィック光学素子による高効率レーザ転写加工装置
- ホログラフィック光学素子による高効率レーザ転写加工装置
- ハイピークパワーCO_2レーザーによる電子基板穴あけ加工
- エレクトロニクス分野における最近のレーザ加工の展開
- 短パルスCO2レーザによるIC基板穴あけ加工 (特集:レーザー加工の最近の発展--精密,微細,高遼化をめざして)
- エキシマレーザガスの放電開始機構に関する検討
- KrFエキシマガスにおける放電開始特性の定量化
- 先端レーザ加工機を支えるシミュレーション技術 (特集 製品を支える物理シミュレーション技術)
- ホログラム型エキシマレ-ザ加工機 (特集 限界加工への挑戦--ハイテクメカトロ機器の最新動向)
- 4kWラジアル偏光ビームの発生