ホログラフィック光学素子による高効率レーザ転写加工装置
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概要
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エキシマレーザはその短波長性、短パルス性などから電子基板の穴開け加工などの微細加工用途に応用が期待されている。このような微細加工に使用される加工光学系はマスク転写加工光学系が一般的である。ところが従来のマスク転写加工では通常、マスクの開口率が低く、マスクに照射されたレーザ光はそのほとんどがマスクに遮られる。そのため光学系のエネルギー効率は非常に低く抑えられており、このことがエキシマレーザの微細加工分野での普及の妨げになっていた。我々はこの状況を克服するためにホログラフィック光学素子を用いた転写加工光学系を開発した。これはホログラフィック光学素子によってレーザビームをマスク開口部に分割照射し、マスク透過率を飛躍的に向上させるものである。この工学系によって従来の10倍以上のエネルギー効率を得ることが可能となった。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1998-06-25
著者
-
山本 達也
三菱電機(株)先端技術総合研究所
-
佐藤 行雄
三菱電機(株)
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佐藤 行雄
三菱電機先端技術総合研究所
-
佐藤 行雄
三菱電機(株)先端技術総合研究所
-
斉藤 善夫
三菱電機(株)先端技術総合研究所
-
佐藤 行雄
三菱電機 先端技総研
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