ホログラフィック光学素子による高効率レーザ転写加工装置
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 1998-06-25
著者
-
山本 達也
三菱電機(株)先端技術総合研究所
-
佐藤 行雄
三菱電機(株)
-
佐藤 行雄
三菱電機先端技術総合研究所
-
佐藤 行雄
三菱電機(株)先端技術総合研究所
-
斉藤 善夫
三菱電機(株)先端技術総合研究所
-
佐藤 行雄
三菱電機 先端技総研
関連論文
- 4kWラジアル偏光ビームの発生
- プリパルス/PFN回路方式XeClエキシマレーザの動作解析
- KrFエキシマレーザガス寿命の繰り返し周波数依存性
- KrFエキシマ励起放電中の陰極輝点とガス温度の検討
- 高指向性単眼式HMDの光学特性評価
- ホログラムビーム照射光学系による長周期ファイバーグレーティングの製作(2)-UV光前照射法による水素処理光感度一定化-
- グリｰンレｰザｰによる低温ポリシリコン化アニｰル
- パルスグリーンレーザーアニール用均一線状ビーム照射光学系の開発
- 単一縦モードCW色素レーザー光の高利得パルス増幅
- 高輝度レーザガイド星用レーザシステムへのパルス色素レーザの適用検討
- 薄型・小型指紋センサ
- 低温poly-Si製容量型指紋センサ (「VLSI一般」)
- 低温poly-Si製容量型指紋センサ
- 単一縦モードCW色素レーザー光の高利得パルス増幅
- マルチゾーンホモジナイザによる高効率微細レーザー加工
- マルチゾーンホモジナイザによる高効率微細加工
- ホログラフィック光学素子を用いたエキシマレーザ加工用多重結像光学系
- ホログラムによる高効率光加工技術
- エレクトロニクス分野におけるエキシマレーザー加工の応用
- エキシマレーザの高効率転写加工光学系
- 解説 装着型ディスプレー 視野をふさがない画面
- 高出力・高ビーム品質色素レーザー開発
- 口径90mm放電管による大出力銅蒸気レーザーの開発
- 大口径CVL発振器の開発
- プレーナオプティクス型光トラッキングセンサーの開発
- 2kW出力XeClレーザーの開発
- 4)ホログラフィック光学素子による高効率レーザ転写加工装置(〔情報センシング研究会 情報ディスプレイ研究会〕合同)(画像変換技術)
- ホログラフィック光学素子による高効率レーザ転写加工装置
- ホログラフィック光学素子による高効率レーザ転写加工装置
- ホログラフィック光学素子による高効率レーザ転写加工装置
- ハイピークパワーCO_2レーザーによる電子基板穴あけ加工
- エレクトロニクス分野における最近のレーザ加工の展開
- 短パルスCO2レーザによるIC基板穴あけ加工 (特集:レーザー加工の最近の発展--精密,微細,高遼化をめざして)
- エキシマレーザガスの放電開始機構に関する検討
- KrFエキシマガスにおける放電開始特性の定量化
- 先端レーザ加工機を支えるシミュレーション技術 (特集 製品を支える物理シミュレーション技術)
- ホログラム型エキシマレ-ザ加工機 (特集 限界加工への挑戦--ハイテクメカトロ機器の最新動向)
- 4kWラジアル偏光ビームの発生