高複屈折性液晶材料の光安定性に関する研究
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概要
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高複屈折性液晶材料であるトラン系2種類を用いて、光安定性を検討した。光照射は高圧水銀灯の366nmの輝線を照射して行った。その結果、照射エネルギーが増大するに従い、吸収端が長波長シフトし、照射波長での吸光度も増大することが確認された。また、吸収端部分に微小な差異が生じている場合、光安定性に差異を生じる原因となることがわかった。光安定性の点ではシクロヘキシル基の導入は有効であった。さらに、モル吸光係数が非常に小さい場合においても光化学反応が起こる可能性があることが示された。
- 社団法人映像情報メディア学会の論文
- 2000-03-03
著者
-
木村 良子
メルク・ジャパン株式会社 厚木テクニカルセンター
-
沢田 温
メルク・ジャパン株式会社 厚木テクニカルセンター
-
苗村 省平
メルク・ジャパン株式会社 厚木テクニカルセンター
-
苗村 省平
メルク(株)液晶事業部厚木テクニカルセンター
-
苗村 省平
メルク・ジャパン(株)、厚木テクニカルセンター
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沢田 温
メルク・ジャパン株式会社厚木テクニカルセンター
-
澤田 温
メルク・ジャパン株式会社 厚木テクニカルセンター
-
大桐 小百合
メルク・ジャパン株式会社 厚木テクニカルセンター
-
大桐 小百合
メルク・ジャパン(株)
-
真辺 篤孝
Merck KGaA, Liquid Crystal Research, Business Unit Liquid Crystal
-
真辺 篤孝
Merck Kgaa Liquid Crystal Research Business Unit Liquid Crystal
-
真辺 篤孝
Liquid Crystal Research Business Unit Liquid Crystals Merck Kgaa Germany Frankfurter Strasse 250 642
-
西川 研一
メルク・ジャパン株式会社厚木テクニカルセンター
-
西川 研一
メルク・ジャパン株式会社 厚木テクニカルセンター
-
澤田 温
メルク・ジャパン(株)
-
Naemura Shohei
メルク・ジャパン株式会社液晶テクニカルセンター
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