ポリシランを用いた導電パターンの形成
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1998-09-07
著者
-
今井 高史
Ge東芝シリコーン
-
壁田 桂次
東芝シリコーン
-
若松 茂
東芝シリコーン
-
杉 信一郎
東芝シリコーン
-
大滝 俊之
東芝シリコーン
-
今井 高史
東芝シリコーン
-
若松 茂
東芝シリコーン株式会社技術研究所
-
杉 信一郎
東芝シリコーン株式会社技術研究所
-
壁田 桂次
Ge東芝シリコーン株式会社
-
大滝 俊之
GE東芝シリコーン株式会社
関連論文
- ポリシランを用いた導電パターンの形成
- 不均化反応によるネットワーク状ポリシランの合成と光反応
- シリコーン : その身近な用途(現代社会を支える高分子材料 1)
- ポリシラン薄膜の光酸化反応 : 定量的評価
- ネットワーク状ポリシラン組成物の導電性とそのパターニング
- 回路描画可能なケイ素系高分子材料 (先端ポリマ-材料)
- ポリシラン薄膜作製プロセスの最適化および組成物化による高導電化
- 回路描画可能なケイ素系高分子材料
- シリコーン
- シリコーン (特集 2005年日本プラスチック産業の展望)
- シリコーン (特集 2003年日本プラスチック産業の展望)
- シリコーン (特集 2001日本プラスチック産業の展望)
- 表面改質の主役シリコーン (特集 マルチ機能材料としてのシリコーン)
- シリコ-ン (特集/′98日本プラスチック産業の展望)
- シリコ-ン (′95日本プラスチック工業の展望)
- 高機能性シリコ-ン (シリコ-ンポリマ-)
- 光ファイバ用シリコ-ンコ-ティング材
- 高機能性シリコーン