不均化反応によるネットワーク状ポリシランの合成と光反応
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概要
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メチルアルコキシジシランの触媒的不均化反応によるネットワーク状ポリシランの合成を検討した。ポリシラン中にメチル基以外の有機置換基を導入する方法として、(1)アルコキシシラン共存下でのジシランの不均化反応、(2)少量の有機リチウム試薬で不均化反応を開始、という2方法を開発した。該法によりアルキル基やアリール基のみならず、アルキレン基やアリーレン基をポリマー中に導入できた。得られたポリシランはネットワーク構造とアルコキシ置換基を有しているため、光酸化反応による分子量低下が極端に小さく、パターニング材料などに利用可能であることが判明した。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1998-05-06
著者
-
今井 高史
Ge東芝シリコーン
-
壁田 桂次
東芝シリコーン
-
若松 茂
東芝シリコーン
-
杉 信一郎
東芝シリコーン
-
今井 高史
東芝シリコーン
-
若松 茂
東芝シリコーン株式会社技術研究所
-
杉 信一郎
東芝シリコーン株式会社技術研究所
-
壁田 桂次
Ge東芝シリコーン株式会社
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