壁田 桂次 | Ge東芝シリコーン株式会社

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概要

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関連著者

• 壁田 桂次

  Ge東芝シリコーン株式会社

• 今井 高史

  Ge東芝シリコーン

• 壁田 桂次

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• 若松 茂

  東芝シリコーン株式会社技術研究所

• 杉 信一郎

  東芝シリコーン株式会社技術研究所

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• 杉 信一郎

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• 大滝 俊之

  GE東芝シリコーン株式会社

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• 杉信 一郎

  東芝シリコーン株式会社 技術研究所

• 渡辺 政浩

  GE東芝シリコーン株式会社

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著作論文

• ポリシランを用いた導電パターンの形成
• 不均化反応によるネットワーク状ポリシランの合成と光反応
• ポリシラン薄膜の光酸化反応 : 定量的評価
• ネットワーク状ポリシラン組成物の導電性とそのパターニング
• 回路描画可能なケイ素系高分子材料 (先端ポリマ-材料)
• ポリシラン薄膜作製プロセスの最適化および組成物化による高導電化

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