SPAを用いたラジカル酸化プロセスの応用 : ポリシリコン上直接酸化(プロセスクリーン化と新プロセス技術)

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概要

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ポリシリコン基板への代表的な酸化膜形成手法として、熱酸化プロセス、熱CVDプロセスが挙げられる。これら従来技術では、高温処理のため基板ポリシリコンの界面ラフネス悪化や、不純物の偏析などによる酸化膜信頼性の劣化が問題となっている。このような問題に対して、SPAプラズマを用いたラジカル酸化を適用することで、界面の平坦性に優れた電気的信頼性の高い酸化膜が形成される。物理分析により、ポリシリコンの再結晶化および不純物再拡散の抑制が、ラフネス改善の要因であることがわかった。
2004-10-07

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