RLSAを用いた酸窒化プロセスによる極薄膜ゲート絶縁膜形成

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概要

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• 2003-10-20

著者

• 中西 敏雄

  東京エレクトロンat Spa開発技術部

• 西田 辰夫

  東京エレクトロンAT SPA開発技術部

• 佐藤 吉宏

  東京エレクトロンAT株式会社

• 松山 征嗣

  東京エレクトロンAT株式会社

• 尾崎 成則

  東京エレクトロンAT株式会社

• 尾崎 成則

  東京エレクトロンat(株)

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