CD欠陥と透過率欠陥を高感度で検出する新しいマスク欠陥検査方法

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概要

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• クオーターミクロン世代では35nm以下にフォトマスクのCDを制御する必要があるとされる。しかし、従来のマスク欠陥検査装置では100nm以下のCD欠陥を検出するのは困難となっていた。そこで、参照画像に対するセンサ画像の透過率エラーと相対位置ずれを最小自乗法により精度よく計算することにより、従来検出が困難であったCD欠陥や透過率欠陥を高感度で検出する方法を開発した。欠陥を作成して評価した結果、透過率エラーとして3%、つまり±24nmCD欠陥を検出可能であることがわかった。

• 1998-11-20

著者

• 山下 恭司

  東芝研究開発センター

• 中島 和弘

  東芝

• 山下 恭司

  松下電子工業(株)プロセス開発センター

• 山口 真司

  東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所

• 中島 和弘

  東芝研究開発センター先端半導体デバイス研究所

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