重み付け電子線露光によるチャープトグレーティングの試作とDFBレーザへの応用
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概要
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重み付け電子線露光によるチャープトグレーティングの描画法を提案する。本描画法は、フィールドサイズ変調法に重み付け電子線露光を組み合わせることで、線形チャープトグレーティングを形成するものである。また、実際にチャープトグレーティング(CG)分布帰還型(DFB)レーザを試作し、その光双安定性を測定した。測定結果によれば、CG DFBレーザにおいて双安定遷移が生ずる光パワーは、通常のDFBレーザに比べ約1/4と小さく、入力光の波長についても通常のDFBレーザに比べほぼ2倍の範囲で双安定性が観測された。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2000-05-19
著者
-
中野 義昭
東京大学工学系研究科
-
メイワー D.n.
ロチェスター大学
-
田島 卓郎
東京大学工学系研究科電子工学専攻・jst-crest
-
林 國人
クレステック(株)
-
アサワメーターパン W.
東京大学工学系研究科電子工学専攻・JST-CREST
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