フォトブリーチングによるアゾ高分子導波路へのグレーティングの形成とその結合特性
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概要
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我々はアゾ高分子薄膜のフォトブリーチング特性を利用し、波長532nmのレーザー光の干渉光により屈折率グレーティングを作製した。グレーティングの回折効率は最大で35%に到達した。干渉露光部のIRスペクトルから、アゾ結合の切断を確認した。AFM観察から、レリーフ構造が確認されたが、その変調深さは〜30nm程度と小さく回折効率へのレリーフの効果は無視でき、グレーティングはフォトブリーチングによる屈折率変調型であると判断できた。これらグレーティングの光入出力カプラーとしての特性を評価した。このグレーティングによる出力結合効率には偏波依存性が観察され、屈折率変化の異方性が示唆された。薄膜のフォトブリーチングによる透過率変化の偏波依存性を調べたところ二色性が観察され、膜垂直面内に屈折率変化の異方性があることがわかった。出力結合効率の偏波依存性はこの効果に依存しているものと考えられた。
- 1999-06-24
著者
-
戒能 俊邦
東北大学多元物質科学研究所
-
戒能 俊邦
東北大多元研
-
戒能 俊邦
東北大学反応化学研究所光材料化学分野
-
小野寺 信治
東北大学反応化学研究所
-
服部 俊明
東北大学反応化学研究所:三菱レイヨン株式会社中央技術研究所
-
柴田 智章
東北大学反応化学研究所
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