X線を使用する光音響分光
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概要
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近年シンクロトロン放射に伴う強力X線を得ることが可能となり、系統的かつ測定精度を上げたX線を使用する光音響分光測定が行われるようになった。今回我々haZnO薄膜をスパッタリング法で作製し(膜厚:0.6μm-7.0μm)、高エネルギー研のシンクロトロン放射光を使用しZnのK吸収端近傍(直上600eV)でのX線音響分光測定を行った。測定は通常のマイクロホン法で行い、X線強度変調周波数は10Hzから400Hzの範囲である。その結果、いずれの変調周波数においても吸収端で信号強度の増加とXANESと類似の微細構造が出現した。また信号強度の変調周波数依存性は、低周波数領域では単純なRG理論では説明出来ないことがわかった。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1994-02-28
著者
-
升島 努
広島大学医歯薬学総合研究科
-
安藤 正海
高エネルギー物理学研究所
-
升島 努
広島大学大学院医歯薬学総合研究科分子治療解析・デバイス学教室
-
豊田 太郎
電気通信大学
-
安藤 正海
高エネルギー加速器研究機構
-
升島 努
広島大・医・総合薬
-
升島 努
広島大学医学部
-
升島 努
広島大学大学院医歯薬学総合研究科
-
升島 努
広島大学
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