ラマン分光による低温Poly-Si中の応力、欠陥、水素の評価
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概要
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TFT-LCD用のレーザ結晶化poly-Si薄膜に対してラマン分光による評価を行った。特徴は〜520cm^<-1>光学フォノンモードに対する高解像度のマッピング測定と低ダメージ水素化技術の併用による〜2000cm^<-1>での欠陥に関係したスペクトル検出の二つである。光学フォノンモードの強度マップは粒界部の突起と対応する。そのピーク周波数マップから、引っ張り応力が結晶粒内に蓄積し、粒界で緩和していることが分かった。大粒径結晶に隣接した微結晶の存在も半値幅のマップとして現れた。欠陥は通常固有のピークを持たないが, 水素原子を添加すると欠陥を終端してSi-水素結合として2000cm^<-1>領域に現れる。欠陥に関係した特徴的な鋭いピークがレーザー結晶化後あるいはプラズマ照射後に検出された。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2000-04-14
著者
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