光によって励起された半導体プラズマグレーティング構造からのミリ波の漏洩現象
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概要
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本論文は光によって励起された半導体プラズマグレーティング構造からのミリ波の漏洩特性について理論的ならびに実験的に考察したものである.まず, 特異摂動法と呼ばれる解析手法により光プラズマが正弦波状に分布する半導体導波路における漏洩波の特性を零次, 1次, 2次の摂動界を順に求める方法により明らかにし, 放射効率および放射パターンを数値的に評価した.次に径10cmの高抵抗シリコン上にキセノンランプと周期的なパターンのスライドを用いて光プラズマグレーティングを励起し, これに40GHzのミリ波を励振し, 光プラズマグレーティング構造からミリ波の漏洩現象の測定を行い, 理論値と比較検討した.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1998-02-19
著者
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