光プラズマが誘起された半導体上の金属ストリップグレーティングによるミリ波の散乱特性
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概要
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準光学系でのミリ波の光制御としてプラズマが誘起された半導体スラブからのミリ波の反射および透過の研究がなされた.しかしながらこの方法によるミリ波の光制御特性の効率はあまり良くない様である.光制御特性の効率を高めるという目的で,筆者らは,光プラズマ誘起された半導体スラブ上の金属ストリップグレーティングによるTM波の平面電磁波のミリ波帯における散乱特性を検討してきた.本報告では,TE波の平面電磁波のミリ波帯における散乱特性について検討する.
- 1996-03-11
著者
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