YIG薄膜基板マイクロストリップ線路における静磁波と光との相互作用
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概要
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YIG薄膜を基板にもつマイクロストリップ線路において表面静磁波,体積後退静磁波および体積前進静磁波の3つのモードが伝搬することに着目し,厚さ100μmのYIG薄膜に幅1mmのストリップを装荷した構造において,これらのモードと光との相互作用を主に実験的に検討した。その結果,3つのモードとも変調率数%で相互作用が現れ,磁気同調性,非線形特性そしてストリップ線路内にほとんどのMSWが閉じ込められる特性などを光によって観測することができた。一方,光のTEMモードとMSWとの結合特性を結合モード理論により取り扱い,結合係数に関する若干の検討を加えた。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1999-10-21
著者
-
上田 哲也
京都工芸繊維大学大学院工芸科学研究科電子システム工学部門
-
堤 誠
京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科
-
上田 哲也
京都工芸繊維大学
-
菊井 一彦
京都工芸繊維大学 工芸学部 電子情報工学科
-
ダナ ソーヴェン
京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科
-
堤 誠
京都工芸繊維大学
-
Dana Soven
京都工繊大 工芸
-
Dana Soven
京都工芸繊維大学
-
上田 哲也
京都工芸繊維大学大学院工芸科学研究科
-
Dana Soven
京都工芸繊維大学工芸学部
-
ダナ ソーヴェンクマール
京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科
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