ポーラスシリコンを用いるレーザー脱離イオン化質量分析の合成高分子への応用(<特集>ナノ空間と分析化学)

概要

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マトリックス支援レーザー脱離イオン化(matrix-assisted laser desorption ionization, MALDI)は, 低分子から高分子に至る様々な化合物のイオン化に有効である.しかしながら, マトリックス関連イオンが強く検出されるためにマススペクトルが複雑になり, 目的イオンの解析が困難な場合がある.また, スペクトルの再現性や定量性に欠け, イオン化の際に試料の酸化還元による分解が起こりやすいという欠点がある.ポーラスシリコンを用いたレーザー脱離イオン化(desorption ionization on silicon, DIOS)は, マトリックスなしでイオン化が可能であるので, ノイズイオンの少ない単純なスペクトルが得られることが期待される.著者らは, DIOSチップ用の電解装置を製作し, DIOS作製の最適条件を決定し, 低質量域において夾(きょう)雑物イオンの影響がほとんどないマススペクトルを得た.そして, DIOS法がいろいろな種類の合成高分子の定量並びに定性分析で有効であることを示した.更に, 銅(II)塩, 有機色素, フェロセン誘導体, リボフラビンを用いてMALDIとDIOSのイオン化機構を調べるために, それらの酸化還元の挙動を検討した.
2005-06-05