DIOS法を利用した合成高分子の質量分析 : DIOSチップ作製の最適化
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概要
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Desorption/ionization on porous silicon (DIOS) is a novel matrix-free variant of laser desorption/ionization (LDI) techniques for mass spectrometry. The DIOS chips are produced by electrochemical etching of silicon wafers under light exposure. In the present report, the optimal conditions, regarding resistivity of silicon wafer, etching current density and etching time, for making DIOS chip with better ionization performance are described. In addition, the DIOS mass spectra of various synthetic polymers including polyethyleneglycol, nonylphenolpolyethoxylate, nonylphenolpolyethoxylatesulfate, polymethylmethacrylate are compared with the matrix-assisted LDI mass spectra.
- 日本質量分析学会の論文
- 2004-06-01
著者
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荒川 隆一
関西大学工学部応用化学科
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和田 芳直
科学技術振興機構和田プロテオミクスプロジェクト:大阪府立母子保健総合医療センター
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藤原 博樹
関西大学工学部応用化学科
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奥野 昌二
科学技術振興機構和田プロテオミクスプロジェクト
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下前 幸康
関西大学工学部応用化学科
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荒川 隆一
科学技術振興機構和田プロテオミクスプロジェクト
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小原 一真
関西大学工学部応用化学科
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大山 淳
関西大学工学部応用化学科
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大本 将義
関西大学工学部応用化学科
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奥野 昌二
科学技術振興機構和田プロジェクト
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木本 将義
関西大学工学部応用化学科
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