反応性蒸着法による高電気抵抗 Fe_<83>Gd_<17>-O 軟磁性膜の高速形成
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概要
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Fe_<83>Gd_<17>-O granular magnetic films with high electrical resistivity were successfully prepared at a rather high rate (〜90 nm/min) by the reactive evaporation method, in which an O_2 molecular beam was used. The films with good properties showed a coercivity of 〜2 Oe, 4πM_s of 〜8000 G, a uniaxial anisotropy field of 〜20 Oe, and a resistivity of 〜500μΩcm. The easy axis of the inplane anisotropy was found to be generated in the direction normal to the plane of O_2 beam incidence. After annealing at 250℃ for 2 hours, the 4πM_s of as-deposited films increased to values of over 10000 G.
- 社団法人日本磁気学会の論文
- 1998-04-15
著者
-
島田 寛
東北大科研
-
島田 寛
東北大学科学計測研究所 磁気機能計測研究分野
-
武野 幸雄
東北大多元研
-
武野 幸雄
東北大学科学計測研究所
-
武野 幸雄
東北大学多元物質科学研究所
-
島田 寛
東北大学科学計測研究所
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