電子サイクロトロン共鳴(ECR)スパッタ法を用いた高品質薄膜形成
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概要
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The principles and merits of the electron cyclotron resonance (ECR) plasma sputtering method are described. This method enables high-quality thin films to be formed by using precisely controlled ion irradiation to the substrate during deposition. We introduce ECR-sputtered carbon films and oxide films. The carbon films consist of nano-graphite crystallite, which results in both high hardness, comparable to that of diamond and high electrical conductivity, much higher than that of diamond. The resistivity of ECR-sputtered oxide films with thicknesses of 2 to 40 nm are of the order of 10^<15>Ωcm. A dielectric strength of more than 10 MV/cm is realized.
- 社団法人日本磁気学会の論文
- 2002-06-01
著者
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