アモルファスワイヤC-MOS MIセンサ回路による渦電流型金属近接検出
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概要
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This paper presents a new proximity sensing method for metals that uses a C-MOS IC MI sensor circuit with an amorphous wire head 30 μm in diameter and 1-2 mm in length with a coil. A sharp pules field with a rise time of a few nano seconds is generated from the amorphous wire by a coil current and the wire axis, and induces a field with an eddy current at the surface of a metal specimen. The new metal sensor with a micro-size head and quick response is expected to be useful for non-destructive testing (NDT) of micro region in metals.
- 社団法人日本磁気学会の論文
- 1999-04-15
著者
-
毛利 佳年雄
名古屋大学工学部
-
毛利 佳年雄
名古屋大学
-
毛利 佳年雄
名古屋大学学院
-
毛利 佳年雄
名古屋大学工学研究科電気工学専攻
-
中林 宗治
名古屋大学
-
中林 宗治
名古屋大学工学研究科
-
毛利 佳年雄
名古屋大
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