1302 誘導結合型 RF 低圧プラズマによる半導体製造装置排ガス分解に及ぼす電源周波数の影響

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概要

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• CF_4 is one of the most stable gases among semiconductor processing gases and their decomposition is extremely difficult. Influence of frequency of radio frequency (RF) power on decomposition of CF_4 using inductively coupled plasma (ICP) reactor at low pressure was investigated. The frequency of RF power supply is 2MHz or 4MHz. With each frequency, complete decomposition can be obtained with certain operately conditions of ICP such as the total flow rate, the ratio of CF_4 to O_2,and RF power. The detailed discussion is presented in this paper.

• 一般社団法人日本機械学会の論文

著者

• 大久保 雅章

  阪府大

• 佐伯 登

  パール工業

• 黒木 智之

  阪府大

• 山本 俊昭

  阪府大

• 大久保 雅章

  阪府大院工

• 黒木 智之

  阪府大院工

• 山本 俊昭

  阪府大院工

• 黒木 智之

  大阪府立大学

• 田中 慎吾

  阪府大院

• 田中 慎吾

  阪府大学

• 嶺 潤子

  阪府大院

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• 大気圧プラズマ複合表面処理によるフッ素樹脂の接着性向上とその応用
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