分岐状ポリフルオロアルキルシラン修飾シリカゲルの熱分解

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概要

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• The thermal decomposition process of the branched-type polyfluoroalkylsilane on silica-gels has been investigated based on TG-DTA/MS measurements. In air the decomposition occurred in hydrocarbon moiety of the fluorosilane. In argon trifluoromethyl group remains stable up to 700℃. In any cases the production of HF and F_2 was not detected at all.

• 社団法人日本セラミックス協会の論文
• 1996-07-01

著者

• 横尾 俊信

  京都大学化学研究所

• 小中原 猛雄

  東京理科大学理工学部

• 小中原 猛雄

  東京理大 理工

• 門出 孝志

  (株)ネオス中央研究所

• 上宇宿 俊朗

  (株)ネオス中央研究所

• 中山 伸之

  (株)ネオス中央研究所

• 根本 藤人

  (株)ネオス中央研究所

• 小中原 猛雄

  東理大理工

• 門出 孝志

  ネオス・中央研

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