小中原 猛雄 | 東京理科大学理工学部
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概要
関連著者
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小中原 猛雄
東京理科大学理工学部
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小中原 猛雄
東京理大 理工
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佐藤 謙二
東京理科大学理工学部工業化学科
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吉井 敏男
東京理大 理工
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坂井 教郎
東京理科大学理工学部
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横尾 俊信
京都大学化学研究所
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門出 孝志
(株)ネオス中央研究所
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上宇宿 俊朗
(株)ネオス中央研究所
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中山 伸之
(株)ネオス中央研究所
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根本 藤人
(株)ネオス中央研究所
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久保田 紳
東京理科大学理工学部工業化学科
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佐野 和哉
東京理科大学理工学部工業化学科
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村山 敬
東京理科大学理工学部工業化学科
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小中原 猛雄
東理大理工
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門出 孝志
ネオス・中央研
著作論文
- 3価のインジウム塩による活性化を基盤とした新しい有機合成反応の開発
- トリメチロ-ルメラミンの縮合速度に及ぼすジメチルスルホキシドの溶媒効果
- 分岐状ポリフルオロアルキルシラン修飾シリカゲルの熱分解
- 2-メチルキノリン誘導体を用いるペルフルオロアルキル置換 1H-ベンゾ[c]キノリジン-1-オン誘導体の合成
- 2-メチルピリジン誘導体を用いるRf置換4H-キノリジン-4-オン誘導体のワンポット合成
- 炭化フッ素系化学結合型逆相HPLC用充填剤の合成とその分離特性
- N-シリル-1-アザアリルアニオンを経るペルフルオロアルキル置換4-フルオロピリジン誘導体のone-pot合成 (ケイ素化学の新しい展開) -- (合成)
- 炭酸塩緩衝溶液中におけるメラミンのヒドロキシメチル化反応の速度論及び一般塩基触媒反応のBronstedプロット
- 第3級アミン緩衝液中におけるメラミンのヒドロキシメチル化反応の速度論
- N-(2-クロロエチル)モルホリン-共役酸緩衝溶液中におけるメラミンのヒドロキシメチル化反応
- メラミンのホルムアルデヒドによるヒドロキシメチル化反応における一般塩基触媒反応機構--律速段階の変化の証拠
- トリエチレンジアミン及び3-クロロキヌクリジン緩衝溶液中におけるメラミンのヒドロキシメチル化反応
- 新規選択的高効率反応の開発と機能性分子および先端材料の創製への応用 (特集 21世紀に開花するニューマテリアルとそのテクノロジーへの招待--東京理科大学における先端材料研究)
- 3価のインジウム塩による活性化を基盤とした新しい有機合成反応の開発