シリカガラスの真空紫外光照射下における光透過率のその場測定
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概要
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In situ measurements of optical absorption in silica glass were carried out under irradiation of VUV light using undulator radiation. Optical loss at 6.7 eV and 7.6 eV increased with increasing of total dosage. It was also observed that the increase in the optical loss depends on the preparation method of silica glass. Optical cal loss caused by the VUV irradiation was restricted in silica glass having fluorine and OH groups.
- 社団法人日本セラミックス協会の論文
- 1994-10-01
著者
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