3a-W-11 磁気絶縁ダイオードを用いたイオンビーム発生 : 陽極表面吸着ガスの影響
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 社団法人日本物理学会の論文
- 1994-08-16
著者
関連論文
- 第51回応用物理学関係連合講演会(2004年)
- 29a-YC-5 アモルファスコアを用いた高電圧昇圧トランスの開発(V)
- 12a-N-11 アモルファスコアを用いた高電圧昇圧トランスの開発 IV
- 29a-ZD-3 アモルファスコアを用いた高電圧昇圧トランスの開発(III)(プラズマ物理・核融合)
- 25p-A-9 アモルファスコアを用いた高電圧昇圧トランスの開発(II)
- 25p-A-8 アモルファス磁性体の磁化特性の評価
- 18pQE-12 大強度パルス電子ビームを用いた高出力LOGの開発IV(プラズマ科学(高強度レーザー,ジャイロトロン),領域2,原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理)
- 26aQA-7 Large Orbit Gyrotronの三次元シミュレーション解析(26aQA プラズマ科学(ジャイロトロン),領域2(プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理))
- 26aQA-8 大強度パルス電子ビームを用いた高出力LOGの開発III(26aQA プラズマ科学(ジャイロトロン),領域2(プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理))
- 30pUG-3 高周波テラヘルツ光源・ジャイロトロンの開発(30pUG 高エネルギー密度状態の科学(プラズマ放射),領域2(プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理))
- 29pUC-7 大強度パルス電子ビームを用いた高出力LOGの開発II(29pUC プラズマ科学,領域2(プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理))
- 相対論的パルス電子ビームを用いた Large Orbit Gyrotron の開発
- LOG用相対論的パルス電子ビームの発生と評価
- 20aXK-6 Large Orbit Gyrotronによる電磁波発振の三次元粒子シミュレーション(プラズマ科学(ジャイロトロン/X線レーザー),領域2(プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理))
- 大電流パルスアーク放電の特性評価
- 3a-W-10 放電スイッチの特性評価 II
- 20aXK-1 大強度パルス電子ビームを用いた高出力LOGの開発(プラズマ科学(ジャイロトロン/X線レーザー),領域2(プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理))
- 25aXG-11 400keV電子ビームを用いた高出力LOGの開発III(プラズマ科学(ジャイロトロン),領域2(プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理))
- 907 高気圧パルス・グロー放電の崩壊に及ぼす衝撃波の影響(オーガナイズドセッション10 ハイエンタルピー流れ-燃焼,衝撃波,・・・-)
- 大強度パルス相対論的電子ビームによるディーゼル排ガス処理
- 大強度パルス相対論的電子ビーム照射によるオゾン生成
- 横方向励起大気圧ガスレーザの励起放電に及ぼす衝撃波の影響
- 大強度パルス相対論的電子ビームによるNQx処理
- 流れ内におけるエキシマレーザのダブルパルス励起放電特性
- 極限エネルギー密度発生・応用装置"ETIGO-III"で発生されるパルス相対論的電子ビームの特性
- 高気圧パルスグロー放電に及ぼす衝撃波の影響
- 大強度パルス相対論的電子ビームによるNO_X除去
- 802 エキシマレーザの励起放電に及ぼす衝撃波の影響(GS.7 流体工学1)
- パルスパワー発生装置"ETIGO - III"によるIREB発生最適化
- 高気圧パルスグロー放電に及ぼす気体密度くぼみの影響
- TEA-CO_2レーザーによる気中放電誘導機構の研究
- TEA-CO_2レーザーによる気中放電誘導機構の研究
- SrTiO_3強誘電体使用紫外線予備電離小型TEA-CO_2レーザの発振特性
- Discharge-pumped XeCl excimer laser with high-speed gas flow using ludwieg tube
- イオンビームアブレーションプラズマの動特性計測
- Effects of He Ambient on Formation of Si Particles Using Pulsed Ion-Beam Evaporation
- 高繰り返しSOS電源を用いた大気圧放電
- 仮想陰極発振器における大電力マイクロ波発生効率の評価
- 大電流パルスパワー電源を用いたEUV光源に関する研究
- 大気圧電子ビームダイオード用パルス高電圧電源の開発
- SiC-JFETの繰り返し動作特性の評価
- 高繰り返しSOS電源の開発と大気圧放電への応用
- Effect of Ambient Gas Temperature on Synthesis of Fe-N Nanosized Powders by Pulsed Wire Discharge
- Nanosized Ferrite Particles Synthesized by Pulsed Wire Discharge
- Formation and Expansion of Ablation Plasmas Produced by Pulsed Ion Beams for Thin Films Production
- パルス細線放電法によるZnFe_2O_4超微粒子の作製
- 放電スイッチの長時間連続動作特性
- 空心トランスを用いた高繰り返しパルス電力装置の開発
- 空心トランスを用いたダブルパルス発生装置の開発
- 2002年 研究開発の動向
- 大旋回半径ビームジャイロトロン(LOG)の三次元数値シミュレーション
- パルスイオンビームアブレーションによる飛翔体加速効率の最適化
- 大強度パルスイオンビームによるアブレーション加速の時間依存解析
- 大強度パルスイオンビームアブレーションによる飛翔体加速
- 大強度イオンビームアブレーションによる飛翔体加速
- 2003年 研究開発の動向
- 26aB11P 大強度電子ビームを用いた短パルスサブミリ波ジャイロトロンの開発(加熱・加速, 磁場・電源, 炉設計, 新概念, (社) プラズマ・核融合学会第21回年会)
- 15aQA-2 400 keV 電子ビームを用いた高出力 LOG の開発 II(プラズマ科学 : 電磁波発生・応用, 領域 2)
- 27pWH-5 400keV電子ビームを用いた高出力LOGの開発(プラズマ基礎・科学(プラズマ応用))(領域2)
- プラズマフォーカスによるEUV発生実験
- 大強度パルスイオンビーム蒸着法によるYBCO超伝導体薄膜の作製
- SOSを用いた産業用パルス高電圧発生器の開発
- 大電流パルスアーク放電の特性評価
- 30p-YX-9 放電スイッチの特性評価(III)
- 3a-W-9 放電スイッチの特性評価 I
- 12a-N-10 スパークギャップスイッチにおける放電損失の評価
- アモルファス金属性磁体コアの大電流パルス磁化特性
- Blue Light Emission from Ultrafine Nanosized Powder of Silicon Produced by Intense Pulsed Ion-Beam Evaporation
- Synthesis of Fe-N Nanosized Powders by Pulsed Wire Discharge
- Synthesis of Single-Walled Carbon Nanotubes by Pulsed Wire Discharge
- Extinction of Large Droplets in Ion-Beam Ablation Plasma Produced by Ion-Beam Evaporation
- Preparation of SrAl_2O_4:Eu, Dy Phosphor Thin Films on Organic Substrates by Pulsed Ion-Beam Evaporation
- Particle Size Distribution of Copper Nanosized Powders Prepared by Pulsed Wire Discharge
- Preparation of Ti-Fe Hydrogen Storage Alloy Thin Films by Pulsed Laser Deposition
- Oxidation Resistance of Cr-N-O Thin Films Prepared by Pulsed Laser Deposition
- パルスパワー技術を用いた薄膜と超微粒子の作製
- SIサイリスタを用いた高繰り返しパルスパワー電源の開発
- オーバラップ型z-放電プラズマチャネルを用いた大強度パルス陽子ビームの伝播
- 1997年米国物理学会プラズマ部門年会
- Characterization of Pulsed High-Current Generator for Extreme Ultraviolet Generation
- Pulsed High-Current Generator for EUV Source Development
- Enhanced Energy Deposition of Protons in Aluminium Targets
- パルスイオンビーム蒸着法によるSi_Ge_x固溶体薄膜の作製
- 長岡技科大における高収束イオンビーム発生実験
- SOSを用いた小型繰返しパルスパワー発生装置の開発
- 仮想陰極発振器の動特性評価と最適化
- Preparation and Evaluation of Aligned Naphthacene Thin Films Using Surface Plasmon Excitation(Evaluation of Organic Materials,Towards the Realization of Organic Molecular Electronics)
- Preparation and Evaluation of Aligned Naphthacene Thin Films Using Surface Plasmon Excitation(Fabrication of organic materials)
- Preparation and Evaluation of Aligned Naphthacene Thin Films Using Surface Plasmon Excitation
- 25p-A-10 ポイントピンチダイオードのイオンビーム及びアノードプラズマの評価
- 29p-ZA-10 ポイントピンチダイオードの陽極プラズマ計測
- 31p-Z-1 強磁界中の放射損失割合
- 5a-NT-12 衝突周波数に及ぼす磁界効果
- NO_x Treatment Using Inductive-Energy-Storage Pulsed Power Generator
- パラメトリック不安定性によるプラズマ加熱
- パルスイオンビーム蒸着法によるSi基板上のビアホールへのW埋込み
- 三次元収束型プラズマ・フォーカス・ダイオードにおけるイオンビームの動特性評価
- 29a-R-5 三次元収束型SPFDにおけるイオンビーム計測II
- 30p-YX-11 三次元収束型SPFDにおけるイオンビーム計測
- 高効率仮想陰極発振器の開発と特性評価