2a-YF-1 シリコン酸化膜表面に接触帯電した電荷の散逸過程の研究
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概要
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- 社団法人日本物理学会の論文
- 1994-08-16
著者
-
大麻 隆彦
住友金属工業(株)未来技術研究所
-
内橋 貴之
SFI Physics Department, The University of Dublin, Trinity College
-
内橋 貴之
アトムテクノロジー研究体
-
山西 良樹
東京エンクトロンAT株式会社関西テクノロジーセンター
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大麻 隆彦
東京エンクトロンAT株式会社関西テクノロジーセンター
-
山西 良樹
住友金属工業
-
菅原 康弘
広大理
-
内橋 貴之
広大理
-
森田 清三
広大理
-
深野 善信
広大理
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奥迫 隆博
広大理
-
露口 猛
広大理
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