a-Si_<1-x>N_x:H系膜のフォトルミネッセンスのFRSと電子正孔再結合過程

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概要

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• 社団法人日本物理学会の論文
• 1996-09-13

著者

• 吉田 寿

  山口大工

• 森垣 和夫

  広島工大

• 荻原 千聡

  山口大工

• 池田 一人

  山口大工

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