PAa06 放射光マイクロビーム時分割X線回折法による強誘電/反強誘電性液晶層構造の電場応答観察
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概要
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A synchrotron time resolved microbeam X-ray diffraction was applied to the direct and real time measurement of the local layer response of an antiferroelectric liquid crystal. The transient local layer deformation process related to the field induced phase transition was observed. In the ferroelectric (FE) to antiferroelectric(AFE) phase transition process, the layer structure changed from the bookshelf to the quasi-bookshelf within 0.3ms and the transient structure of horizontal chevron appeared. For the AFE to FE transition, the reverse layer deformation occurred within 0.04ms.
- 日本液晶学会の論文
- 2000-10-23
著者
-
石川 謙
東工大工
-
飯田 厚夫
高エネ研
-
飯田 厚夫
高エネ研放射光
-
飯田 厚夫
高エネ機構・放射光
-
小笠原 豊和
東工大・理工学研究科
-
高西 陽一
東工大・理工学研究科
-
石川 謙
東工大・理工学研究科
-
竹添 秀男
東工大・理工学研究科
-
高橋 由美子
総研大・院
-
飯田 厚夫
高エネルギー加速器研究機構 放射光研究施設
-
小笠原 豊和
東工大
-
高橋 由美子
高エネ研
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