PAa10 放射光マイクロビームX線回折法によるスメクティック層電場応答の時分割測定
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概要
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The dynamic response of the smectic layer structure upon applying an electric field was measured with ms time resolution by means of micro/macro x-ray diffraction system using synchrotron radiation. From the time resolved macro-beam measurement, the reversible transition from the simple bookshelf (at high voltage) to the horizontal chevron (at low voltage) was observed. However, the x-ray microbeam diffraction revealed that the horizontal chevron structure is always realized at both high and low voltage and that the detailed horizontal chevron structure depends on the stripe position.
- 日本液晶学会の論文
- 1999-09-28
著者
-
竹添 秀男
東工大・工
-
高西 陽一
東工大・工
-
飯田 厚夫
高エネ研
-
飯田 厚夫
高エネ研放射光
-
飯田 厚夫
高エネ機構・放射光
-
高橋 由美子
総研大・院
-
飯田 厚夫
高エネルギー加速器研究機構 放射光研究施設
-
高橋 由美子
高エネ研
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