ゾル-ゲル法によるPdドープシリカ膜の開発と水素透過特性・耐水蒸気性の評価
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概要
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ゾル–ゲル法によりPdドープシリカ膜を製膜し,水素透過特性,熱安定性,水素還元による気体透過特性の変化,耐水蒸気性について検討した.Pdドープシリカ膜のTEM観察より,Pdドープシリカ層の膜厚は80 nm程度であることが明らかになり,超薄膜形成が可能であった.また,Pdはシリカマトリックス中に,数nmから10 nm程度の大きさで分散していることが明らかになった.550℃空気雰囲気で製膜したPdドープシリカ膜(Si/Pd53/1)は,乾燥窒素雰囲気(500℃)で熱安定性を有するが,還元雰囲気(500℃, H2)でPdが凝集し,シリカネットワークの緻密化と粒界細孔を閉塞した.550℃水素雰囲気で製膜したPdドープシリカ膜(Si/Pd53/1)は,還元雰囲気(500℃, H2),水蒸気雰囲気(500℃, steam: 70 kPa)で高い安定性を有していた.
- 2010-11-20
著者
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吉岡 朋久
広島大学大学院工学研究院物質化学工学部門
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金指 正言
広島大学大学院工学研究院物質化学工学部門
-
都留 稔了
広島大学大学院工学研究院物質化学工学部門
-
金指 正言
広島大学大学院工学研究科
-
都留 稔了
広島大学大学院工学研究科物質化学システム専攻
-
吉岡 朋久
広島大学大学院工学研究科
-
島田 千絵
広島大学大学院工学研究院物質化学工学部門
-
佐野 充典
広島大学大学院工学研究院物質化学工学部門
-
都留 稔了
広島大学大学院工学研究院 物質化学工学部門
-
島田 千絵
広島大学大学院工学研究院 物質化学工学部門
-
佐野 充典
広島大学大学院工学研究院 物質化学工学部門
-
金指 正言
広島大学大学院 工学研究院 物質化学工学部門
-
都留 稔了
広島大学大学院工学研究科 物質化学システム専攻
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