オペランド解析によるNi_2P脱硫触媒の活性点構造とその硫化効果
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概要
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- 2010-09-04
著者
-
朝倉 清高
北海道大学触媒化学研究センター
-
高草木 達
北海道大学大学院理学研究院化学部門
-
朝倉 清高
東大理
-
朝倉 清高
北海道大学
-
高草木 達
東京大学大学院理学系化学専攻
-
Takakusagi Satoru
Physical Chemistry Laboratory Division Of Chemistry Graduate School Of Science Hokkaido University
-
阪東 恭子
独立行政法人 産業総合研究所
-
和田 敬広
北海道大学触媒化学研究センター
-
阪東 恭子
産業技術総合研究所ナノシステム研究部門
-
宮本 剛志
北海道大学触媒化学研究センター
-
有賀 寛子
北海道大学触媒化学研究センター
-
OYAMA S.
Department of Chemical Systems Engineering, The University of Tokyo
-
朝倉 清高
北大触媒化学研究センター
-
阪東 恭子
産業技術総合研究所
-
Oyama S.
Department Of Chemical Systems Engineering The University Of Tokyo
-
和田 敬広
北海道大学大学院工学研究科
-
有賀 寛子
北大触媒セ
-
高草木 達
北海道大学触媒化学研究センター表面構造化学研究部門・構造制御反応場クラスター
-
朝倉 清高
北海道大学大学院工学院量子理工学専攻
-
高草木 達
北海道大学大学院工学院量子理工学専攻
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