アルミニウム陽極酸化による浅い多孔質アルミナ膜を用いた冷陰極平面電子放射素子
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概要
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- 日本材料科学会の論文
- 2006-06-20
著者
-
高橋 泰樹
情報通信工学科准教授
-
齊藤 進
情報通信工学科教授
-
高橋 泰樹
工学院大学情報通信工学科
-
齊藤 進
工学院大学情報通信工学科
-
齋藤 進
情報通信学科教授
-
齊藤 進
工学院大学
-
横田 孝次
工学院大学大学院工学研究科電気・電子工学専攻
-
中澤 叡一郎
工学院大学工学部電子工学科
-
高橋 泰樹
工学院大学工学部電子工学科
-
中沢 叡一郎
工学院大
-
高橋 泰樹
工学院大
-
高橋 泰樹
工学院大学工学部情報通信工学科教授
-
高橋 泰樹
工学院大学
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