齊藤 進 | 工学院大学情報通信工学科

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概要

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関連著者

• 齊藤 進

  工学院大学情報通信工学科

• 齊藤 進

  工学院大学

• 高橋 泰樹

  工学院大学情報通信工学科

• 高橋 泰樹

  工学院大学工学部電子工学科

• 高橋 泰樹

  工学院大学工学部情報通信工学科教授

• 高橋 泰樹

  工学院大学

• 高橋 泰樹

  情報通信工学科准教授

• 齋藤 進

  情報通信学科教授

• 齊藤 進

  情報通信工学科教授

• 高橋 泰樹

  工学院大

• 高橋 泰樹

  電子工学科

• 阿部 直樹

  工学院大学

• 下山 和則

  工学院大学大学院電気・電子工学専攻

• 下山 和則

  工学院大学大学院電気・電子工学専攻修士課程

• 松田 毅文

  工学院大学

• 那須野 隆行

  工学院大学

• 塚田 和成

  大学院電気・電子工学専攻修士課程2年

• 久保田 直樹

  大学院電気・電子工学専攻修士2年

• 塚田 和成

  工学院大学電子工学科

• 久保田 直樹

  工学院大学電子工学科

• 横田 孝次

  工学院大学大学院工学研究科電気・電子工学専攻

• 中澤 叡一郎

  工学院大学工学部電子工学科

• 中沢 叡一郎

  工学院大

• 内山 勇一

  電気・電子工学専攻修士課程

• 神尾 誠人

  電気・電子工学専攻修士課程

• 神尾 誠人

  工学院大学・電気電子工学専攻

• 内山 勇一

  工学院大学・電気電子工学専攻

• 浅川 陽一

  工学院大学

• 高塚 直樹

  工学院大学電気・電子工学専攻

• 廣沢 一郎

  Japan Synchrotron Radiation Research Institute (JASRI)

• 広沢 一郎

  NEC

• 広沢 一郎

  高輝度光科学研究センター

• 広沢 一郎

  Nec分析評価センター

• 広沢 一郎

  Jasri

• 廣沢 一郎

  高輝度光科学研究センター(spring-8)

• 廣沢 一郎

  (財)高輝度光科学研究センター利用研究促進部門i

• 廣沢 一郎

  財団法人高輝度光科学研究センター

• 廣沢 一郎

  Nec分析評価センター

• 広沢 一郎

  Necデバイス評価技術研究所

• 都甲 康夫

  スタンレー電気・研開センター

• 高橋 泰樹

  工学院大・工

• 齊藤 進

  工学院大・工

• 都甲 康夫

  スタンレー電気(株)研究開発センター

• 宮入 浩司

  工学院大学

• 松下 知治

  工学院大学

• 高瀬 宏至

  工学院大学

• 杉山 靖

  工学院大学

• 小曽根 一博

  工学院大学

• 澤田 保隆

  工学院大学

• 石川 和義

  工学院大学

• 菅野 真弘

  工学院大学

• 大塚 正和

  工学院大学

• 保坂 修治

  工学院大学

• 都甲 康夫

  スタンレー電気株式会社

• 菅野 真弘

  工学院大工

• 伊澤 啓介

  工学院大学大学院修士課程

• 安藤 鷹規

  工学院大

• 都甲 康夫

  スタンレー電気

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著作論文

• 高分子安定化がπセルの過渡応答特性に与える影響
• ラビング処理による双安定アンカリング界面の形成とその表面自由エネルギー関数の決定
• ラビング処理による双安定アンカリング界面の形成
• 2AA02 BTN-LCセルの双安定性に与える各種パラメータの影響
• カイラル・ネマッティク液晶セルに於ける双安定なツイスト状態の発現条件
• 3B16 カイラル・ネマティック液晶セルに於ける双安定なツイスト状態間の遷移現象
• 光配向法によるネマティック液晶に対する双安定アンカンリング表面の形成
• アルミニウム陽極酸化による浅い多孔質アルミナ膜を用いた冷陰極平面電子放射素子
• 陽極電解処理によって形成される浅い多孔質アルミナを用いる電子電界放射素子
• 液晶分子配向に用いられているラビング技術
• 3-2b ラビング処理条件による液晶配向膜の膜構造変化とプレチルト角の関係
• 2AA09 ネマティック液晶セルの電圧保持率の印加電圧パルス振幅依存性
• カイラル・ネマッティク液晶セルに於ける双安定なツイスト状態の発現条件
• 3D05 ポリマー分散型液晶(PDLC)の電気光学特性に与えるカイラル材添加の効果
• 3B17 三角波電圧印加時にネマティック液晶セルを流れる電流に関するシミュレーション
• 2A13 高プレティルト角を持つネマティック液晶と基板間の方位角アンカリングエネルギーの新しい測定法
• 3連F10 スーパーツイストLCDの過渡応答特性
• Bi-Nem LCDのマスター基板における分子配向のプレティルト角がしきい値電圧や光学特性に与える影響
• PC09 双安定型ネマティック液晶ディスプレイ (Bi-Nem LCD) における高コントラストを得るための偏光子及び検光子の透過軸方向の最適化(トピカルセッション-液晶物性計測の最前線-, 2005年日本液晶学会討論会)
• MFPDにおける微粒子の移動速度に対する液晶の誘電率異方性と粘度の影響
• PC06 双安定ネマティック (Bi-Nem) 液晶ディスプレイにおける偏光子及び検光子の透過軸配置の最適化(2004年日本液晶学会討論会)
• 双安定な配向特性を有する基板表面形成
• PD10 回転光配向法によるネマティック液晶セルにおける同心円状および放射状の配向パターン形成(2004年日本液晶学会討論会)
• 工学院大学電子工学科(情報表示工学研究室, 液晶フォトニクス研究室)
• 2B05 VA-TN型LCDの電気光学特性について

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