齋藤 進 | 情報通信学科教授
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概要
関連著者
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齋藤 進
情報通信学科教授
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高橋 泰樹
情報通信工学科准教授
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高橋 泰樹
工学院大
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高橋 泰樹
工学院大学情報通信工学科
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高橋 泰樹
電子工学科
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高橋 泰樹
工学院大学工学部電子工学科
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高橋 泰樹
工学院大学工学部情報通信工学科教授
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高橋 泰樹
工学院大学
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齊藤 進
工学院大学情報通信工学科
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高橋 泰樹
工学院大・工
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齊藤 進
情報通信工学科教授
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齊藤 進
工学院大学
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齊藤 進
工学院大・工
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齋藤 進
工学院大
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浅川 陽一
工学院大学
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齊藤 進
電子工学科
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七海 真
電気・電子工学専攻修士課程
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横田 孝次
工学院大学大学院工学研究科電気・電子工学専攻
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下山 和則
工学院大学大学院電気・電子工学専攻修士課程
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浅川 陽一
電気・電子工学専攻博士課程終了
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高塚 直樹
工学院大学電気・電子工学専攻
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高橋 泰樹
情報通信学科准教授
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下山 和則
工学院大学大学院電気・電子工学専攻
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岡本 康照
工学院大・工
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神尾 誠人
電気・電子工学専攻修士課程
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都甲 康夫
スタンレー電気・研開センター
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中沢 叡一郎
工学院大
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都甲 康夫
スタンレー電気(株)研究開発センター
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斉藤 進
工学院大学
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都甲 康夫
スタンレー電気株式会社
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宇田川 勝
工学院大・工
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土田 真也
工学院大・工
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内山 勇一
電気・電子工学専攻修士課程
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高橋 泰樹
工学院大工
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齊藤 進
工学院大工
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都甲 康夫
スタンレー電気
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塚田 和成
大学院電気・電子工学専攻修士課程2年
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赤羽 正志
長岡技科大・工
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小林 孝資
電気・電子工学専修士課程
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高塚 直樹
電気・電子工学専攻修士課程
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久保田 直樹
大学院電気・電子工学専攻修士2年
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塚田 和成
工学院大学電子工学科
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久保田 直樹
工学院大学電子工学科
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中澤 叡一郎
工学院大学工学部電子工学科
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齋藤 進
工学院大学
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中西 健夫
工学院大・工
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齋藤 進
工学院大・工
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七海 真
工学院大工
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神尾 誠人
工学院大学・電気電子工学専攻
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赤羽 正志
長岡技科大
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野中 源一郎
九州大学薬学部
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大村 進
横浜市立大学 口腔外科
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小林 駿介
山口東京理科大
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津田 大義
電気・電子工学専攻修士課程1年
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横田 孝次
電気・電子工学専攻修士課程
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浅川 陽一
工学院大院工
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横田 孝次
工学院大院工
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七海 真
工学院大院工
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高塚 直樹
工学院大院工
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高橋 泰樹
工学院大院工
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齊藤 進
工学院大院工
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大谷 隆俊
横浜市立大学医学部口腔外科学教室
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遠藤 直樹
電気・電子工学専攻修士課程
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遠藤 直樹
電機・電子工学専攻修士課程
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増田 正樹
横浜市立大学医学部口腔外科学教室
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藤田 浄秀
横浜市立大学 口腔外科
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小林 和也
長岡技大工
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浜田 義彦
工学院大
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千葉 孝之
工学院大学
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宇田川 勝
工学院大学
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志田 啓文
工学院大・工
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小林 駿介
山口東京理科大学工学部電気工学科
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見山 幸広
工学院大学
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小川 正博
工学院大・工
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小林 和也
長岡技科大
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小林 駿介
山口東京理科大学・液晶研究所
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小林 駿介
山口東京理科大学
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斎藤 進
横浜市立大学 口腔外科
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小林 駿介
山口東京理大 工
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高橋 泰樹
長岡技科大
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下山 和則
電子工学科
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内山 勇一
工学院大工
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神尾 誠人
工学院大工
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内山 勇一
工学院大学・電気電子工学専攻
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安藤 鷹規
工学院大
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河内 四郎
横浜市立大学医学部口腔外科学教室
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藤田 浄秀
横浜市立大学医学部口腔外科学教室
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斎藤 進
横浜市立大学医学部口腔外科学教室
-
小林 駿介
山口東京理科大学液晶研究所
著作論文
- 高分子安定化法によって安定化したベンドセルの過渡応答特性のセル厚依存性
- 高分子安定化法によって安定化したベンド配向液晶セルの過渡応答特性の改善
- 紫外線同期間欠照射法によって形成したポリマーネットワークによるネマティック液晶のプレチルト角制御
- 高分子安定化がπセルの過渡応答特性に与える影響
- 5.高分子安定化処理を施したTN液晶セルの過渡特性
- 4.高分子安定化法を用いたベンド配向の安定化
- 1A11 UV硬化型液晶性モノマーの光重合を用いるベンド配向の安定化(トピカルセッション-エレクトリックペーパーに向けての関連技術-, 2005年日本液晶学会討論会)
- ラビング処理による双安定アンカリング界面の形成とその表面自由エネルギー関数の決定
- ラビング処理による双安定アンカリング界面の形成
- 両基板界面に光配向を用いたBi-Nemセルの作製
- 光配向法によるネマティック液晶に対する双安定アンカンリング表面の形成
- アルミニウム陽極酸化による浅い多孔質アルミナ膜を用いた冷陰極平面電子放射素子
- 陽極電解処理によって形成される浅い多孔質アルミナを用いる電子電界放射素子
- アルミニウム陽極酸化薄膜を用いた新規な電子放射素子
- 2PC08 光配向処理を用いたBTNセルの研究
- 1PA41 ネマティック液晶セルにおける電圧保持率フレーム期間数依存性
- 1PA20 HANセルにおける三角波電圧印加時の電流波形
- PC03 Bi-Nemセルにおける双安定な状態間の遷移過程に関するシミュレーション(ディスプレイ)
- 電圧印加によるTN,STN領域間の遷移現象について
- PC04 Mobile Fine Particle Display(MFPD)セルにおける液晶の流れと微粒子の移動(ディスプレイ)
- PC07 双安定ネマティック(Bi-Nem)液晶セルの双安定性に与える方位角アンカリングの影響(ディスプレイ)
- PC06 光配向法とラビング法を組み合わせた双安定ネマテイック(Bi-Nem)液晶セル(ディスプレイ)
- PC09 クロスラビングを用いた高分子安定化型強誘電性液晶の特性改善(ディスプレイ)
- 3.Bi-Nemセルに於けるU状態とT状態からなるストライプドメインの発生
- PC10 Bi-Nemセルの双安定動作における新たな現象(トピカルセッション-液晶物性計測の最前線-, 2005年日本液晶学会討論会)
- PC09 双安定型ネマティック液晶ディスプレイ (Bi-Nem LCD) における高コントラストを得るための偏光子及び検光子の透過軸方向の最適化(トピカルセッション-液晶物性計測の最前線-, 2005年日本液晶学会討論会)
- MFPDにおける微粒子の移動速度に対する液晶の誘電率異方性と粘度の影響
- 2A05 カイラル材添加のN_n液晶を用いた片面ラビング処理による垂直配同型セルの電気光学特性
- 8.二層構造型MFPDの提案
- 7.高分子安定化LCDにおけるVHRの低下のクロマトグラム現象による検討
- 6.双安定ネマティック液晶ディスプレイ(Bi-Nem LCD)における偏光板配置の最適化
- PC12 高分子安定化ネマティック液晶セルに於ける光散乱(トピカルセッション-液晶物性計測の最前線-, 2005年日本液晶学会討論会)
- PC06 双安定ネマティック (Bi-Nem) 液晶ディスプレイにおける偏光子及び検光子の透過軸配置の最適化(2004年日本液晶学会討論会)
- PA27 高分子安定化ネマティック液晶セルの電圧保持率を高める安定化処理条件(2004年日本液晶学会討論会)
- PA38 ネマティック液晶セルの電圧保持率に対する高分子安定化処理の影響(物理・物性)
- PC10 V字特性を持つPS-FLCDセルの電気光学特性コンピュータシミュレーション(ディスプレイ)
- ネマティック液晶セルに流れる異常過渡電流に関する理論的考察
- 過渡電流法によるネマティック液晶セルの各種パラメ-タの測定
- PD10 回転光配向法によるネマティック液晶セルにおける同心円状および放射状の配向パターン形成(2004年日本液晶学会討論会)
- ネマチック液晶のバルク双安定性を用いる双安定液晶ディスプレイ
- 右側耳下腺部に発生したWarthin腫瘍の1例