土田 真也 | 工学院大・工

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概要

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関連著者

• 土田 真也

  工学院大・工

• 高橋 泰樹

  工学院大・工

• 高橋 泰樹

  電子工学科

• 齋藤 進

  情報通信学科教授

• 齊藤 進

  工学院大・工

• 宇田川 勝

  工学院大・工

• 高橋 泰樹

  情報通信学科准教授

• 高橋 泰樹

  工学院大学情報通信工学科

• 都甲 康夫

  スタンレー電気・研開センター

• 都甲 康夫

  スタンレー電気(株)研究開発センター

• 都甲 康夫

  スタンレー電気株式会社

• 岩倉 靖

  スタンレー電気・技研

• 高橋 泰樹

  工学院大学情報通信工学科教授

• 都甲 康夫

  スタンレー電気

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著作論文

• 光配向法を用いた双安定ネマティック(Bi-Nem)液晶セルの作製
• 90°ツイスト型双安定ネマティック(BTN)液晶セルの電気光学特性に与える印加電圧パラメータの影響
• PC03 Bi-Nemセルにおける双安定な状態間の遷移過程に関するシミュレーション(ディスプレイ)
• PC07 双安定ネマティック(Bi-Nem)液晶セルの双安定性に与える方位角アンカリングの影響(ディスプレイ)
• PC06 光配向法とラビング法を組み合わせた双安定ネマテイック(Bi-Nem)液晶セル(ディスプレイ)
• ネマティック液晶にポリマー微粒子を分散させた反射型ディスプレイ
• 流動性微粒子ディスプレイに於ける微粒子画素面積占有率の過渡的変化
• ネマティック液晶セルに微粒子を分散させた新しいディスプレイ
• 2A05 ネマチック液晶を用いた微粒子ディスプレイ

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