スパッタリングシミュレーションにおける分子動力学法とモンテカルロ法の比較

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概要

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•   Low-energy sputtering is studied through molecular dynamics (MD) and binary-collision approximation (BCA) simulations. First, MD simulations as a preliminary study are performed for 5 keV Ar impacts on a Cu target. When random numbers gave the direction of the target crystal axis for each impact, the total sputtering yield almost agreed with the experimental yield of a polycrystalline Cu target. Second, we performed MD and BCA simulations for self-sputtering of W with incident energy of 100 eV and incident angles of 0°-85°. We found that the many-body collision results in high-yield sputtering at grazing incidence. The incident angle dependence of sputtering yields fade out for an MD result with a rough surface.

• 2008-04-20

著者

• 剣持 貴弘

  Doshisha University

• 村本 哲也

  Okayama University of Science

• 剣持 貴弘

  同志社大学生命医

• 村本 哲也

  岡山理科大学総合情報学部

• 剣持 貴弘

  吉備国際大学政策マネジメント学部環境リスクマネジメント学科

• 村本 哲也

  岡山理科大学

• 剣持 貴弘

  同志社大学

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