Organic Monolayers Covalently Bonded to Si as Ultra Thin Photoresist Films in Vacuum UV Lithography
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概要
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- Published by the Japan Society of Applied Physics through the Institute of Pure and Applied Physicsの論文
- 2006-06-30
著者
-
邑瀬 邦明
Department Of Materials Science And Engineering Kyoto University
-
Lee Kyung‐hwang
Kyoto Univ. Kyoto Jpn
-
Sugimura Hiroyuki
Department of Cardiology and Pneumology, Dokkyo University School of Medicine
-
MURASE Kuniaki
Department of Materials Science and Engineering, Kyoto University
-
LEE Kyung-Hwang
Department of Materials Science and Engineering, Kyoto University
-
SANO Hikaru
Department of Materials Science and Engineering, Kyoto University
-
Lee Kyung-hwang
Department Of Materials Science And Engineering Graduate School Of Engineering Kyoto University
-
Sugimura Hiroyuki
Kyoto Univ. Kyoto Jpn
-
Sano Hikaru
Department Of Materials Science And Engineering Kyoto University
-
Sugimura Hiroyuki
Department Of Cardiology And Pneumology Dokkyo University School Of Medicine
-
Sugimura Hiroyuki
Department Of Cardiology & Vascular Disease Dokkyo Medical University Nikko Medical Center
-
Murase Kuniaki
Department Of Materials Science And Engineering Kyoto University
-
佐野 光
Research Institute For Ubiquitous Energy Devices National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology (aist)
-
Sugimura Hiroyuki
Department of Materials Science and Engineering, Kyoto University, Kyoto 606-8501, Japan
-
Sugimura Hiroyuki
Department of Materials Processing Engineering, Graduate School of Engineering, Nagoya University, Chikusaku, Nagoya 464-8603, Japan
-
Sugimura Hiroyuki
Department of Materials Science and Engineering, Kyoto University, Yoshida-Hon'machi, Sakyo, Kyoto 606-8501, Japan
-
Sano Hikaru
Department of Materials Science and Engineering, Kyoto University, Sakyo-ku, Kyoto 606-8501, Japan
-
Sugimura Hiroyuki
Department of Materials Processing Engineering, Graduate School of Engineering, Nagoya University, Chikusa, Nagoya 464-8603, Japan
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