Photochemical grafting of methyl groups on a Si(111) surface using a Grignard reagent.
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概要
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The photochemical grafting of methyl groups onto an n-type Si(111) substrate was successfully achieved using a Grignard reagent. The preparation involved illuminating a hydrogen-terminated Si(111) that was immersed in a CH3MgBr-THF solution. The success was attributed to the ability of the n-type hydrogenated substrate to produce holes on its surface when illuminated. The rate of grafting methyl groups onto the silicon surface was higher when a larger illumination intensity or when a substrate with lower dopant concentration was used. In addition, the methylated layer has an atomically flat structure, has a hydrophobic surface, and has electron affinity that was lower than the bulk Si.
- 2013-12-01
著者
-
邑瀬 邦明
Department Of Materials Science And Engineering Kyoto University
-
杉村 博之
京都大学
-
杉村 博之
京都大学大学院 工学研究科
-
杉村 博之
名古屋大学大学院工学研究科材料プロセス工学専攻
-
杉村 博之
京都大学大学院工学研究科材料工学専攻
-
Murase Kuniaki
Department Of Materials Science And Engineering Kyoto University
-
Murase Kuniaki
Department of Materials Science and Engineering, Kyoto University, Sakyo, Kyoto 606-8501, Japan
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