金属膜開口による光波回折の数値解析 : 電子の運動方程式を結合したFDTD法の適用(フォトニックNW・デバイス, フォトニック結晶・ファイバとその応用, 光集積回路, 光導波路素子, 光スイッチング, 導波路解析, 及び一般)
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概要
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近年, 光ディスク技術において, 高密度化が要求されている.しかし, 光の回折限界により, 現在の光記録方式による記録密度の上限は, 短波長を用いた場合でも数10 Gbit/inch^2であると言われている.そこで, 光の回折限界の打破を可能とする技術として, 光近接場技術が注目されている.本研究では, 近接場光を発生させる金属ナノ開口付近の電界分布の2次元数値解析をFDTD(Finite Difference Time Domain)法を用いて行う.また, そのナノ開口と相変化ディスク構造からなるディスクモデルにおける記録マーク読み取り特性の解析についても述ぺる.ここで, 光の波長領域において誘電率が負となる金属を含む系における電磁界解析を行うために, 電子の運動方程式を考慮したFDTD法を用いる.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2006-01-26
著者
-
小嶋 敏孝
関西大学大学院工学研究科
-
何 一偉
大阪電気通信大学
-
香川 晋弥
松下電器産業(株)
-
何 一偉
大阪電気通信大学工学部
-
香川 晋弥
関西大学大学院
-
何 一偉
大阪電気通信大学情報通信工学部
-
小嶋 敏孝
関西大学大学院
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