電子ビーム励起プラズマPVD法による高密度アモルファスカーボン膜の合成
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概要
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電子ビーム励起プラズマ援用スパッタリングにより高密度a-C膜を合成することを目的とした. 容器内圧力など合成条件を変化させた結果, 1.7〜3.1g/cm3の密度の異なるa-C膜が得られた. XPS分析により密度が高いほどa-C膜中のsp3結合比が高いことを確認した. 膜の表面形状に差異は認められなかったが, 摩擦特性は密度に依存することがわかった.
- 公益社団法人精密工学会の論文
- 2005-08-05
著者
-
平田 敦
東京工業大学大学院
-
岩崎 睦美
東京工業大学大学院
-
平田 敦
東京工大 大学院理工学研究科
-
平田 淳
東京工業大学工学部
-
平田 敦
東京工業大学 大学院理工学研究科 機械物理工学専攻
-
平田 敦
東京工業大学
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