走査プローブ顕微鏡による窒化シリコン表面の観察
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 日本表面科学会の論文
- 2004-03-10
著者
関連論文
- 原子スケールの構造制御技術でアプローチするシリコンナノワイヤトランジスタの開発(ゲート絶縁薄膜、容量膜、機能膜及びメモリ技術)
- 原子層堆積法による高誘電率ゲート絶縁膜の作製とその特性への基板親水性の影響
- 走査プローブ顕微鏡による窒化シリコン表面の観察
- エピタキシャルNiSi_2ソース/ドレインにおける原子層オーダーの接合位置制御及びドーパント偏析によるショットキーバリアハイトの低減(ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- 原子層堆積法とTiキャップアニールによる極薄SiO_2換算膜厚を持つ high-k (k=40) HfO_2 ゲートスタックの形成
- Tunnel FETの非局所モデリング : デバイスモデルと回路モデル(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
- 14nm世代以降に向けたアモルファス金属ゲートによるFinFETのV_tおよびG_mばらつき抑制技術(IEDM特集(先端CMOSテバイス・プロセス技術))
- チャネル長を3nmに微細化した接合レストランジスタの電気特性(IEDM特集(先端CMOSテバイス・プロセス技術))
- 高信頼メタル/high-k CMOS SOI FinFETsのための高温イオン注入技術(先端CMOSデバイス・プロセス技術(IEDM特集))